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3nm來臨!台積電良率可高達80%! | 溫哥華教育中心
   

[叁星] 3nm來臨!台積電良率可高達80%!

叁星、台積電已經先後宣布量產3nm工藝,台積電還特意舉辦了盛大的典禮。


台積電的命名為N3,號稱5nm之後的壹個全新工藝節點,可將密度增加70%,同等功耗下性能提升10-15%,同等性能下功耗降低25-30%。

叁星的命名為3GAE,首次引入GAA全環繞柵極晶體管技術(初期版本)。

據半導體專業人士分析,台積電N3工藝目前的良品率低則60-70%,高則70-80%,與5nm工藝初期的水平類似。

對於剛投入量產的先進工藝來說,這已經是非常不錯的良率水平,具備了大規模量產、供貨的條件。

台積電還在開發N3E、N3P、N3S、N3X等不同版本,這也奠定了很好的基礎。

相比之下,叁星3GAE的初期良率要低得多,估計在10-20%左右,而且壹直沒有明顯改善,芯片質量也參差不齊。


當然,以上數字都是業界估測,台積電、叁星都不可能公布具體數字,只能走著瞧了。

不過,叁星工藝拉胯也不是壹次兩次了。



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    評論1 游客 [伍.昔.自.篇] 2023-01-01 12:03
    良率應為實測數據,不能憑空估計和推測。台積電不公布實測數據,估計沒有依據,也不“專業”。更不好對比。
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