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中國國產深紫外光刻機傳量產 挑戰ASML地位 | 溫哥華教育中心
   

中國國產深紫外光刻機傳量產 挑戰ASML地位

科技媒體《信息報》援引消息人士報導稱,壹家總部位於上海中國公司已開始限量生產沉浸式深紫外光刻機。這家公司計劃今年生產伍套系統並交付,預計到2027年生產約20台沉浸式深紫外光刻機。




2023年7月,在上海舉行的世界人工智能大會上,壹名工作人員正在檢查中國超級計算機制造商展位上的顯示屏,屏幕上展示著壹枚計算機芯片以及“自主”贰字。 ? 美聯社圖片

雖然這個數字可能看起來並不大,但它代表了中國在開發本土深紫外光刻機生產方面作出的重大努力,預計將能減少對荷蘭芯片設備巨頭阿斯麥(ASML)等第叁方供應商的依賴。這家上海公司計劃首先向中芯國際、長鑫存儲和華虹交付,並將這些機器集成到它們的生產流程中。該消息發布後,阿斯麥股價下跌了 4.6%。

由於事關敏感,相關人士並未透露這家國有背景的制造商的身份。這項突破最終可能會挑戰阿斯麥在中國的市場地位,但上述系統在性能和可靠性方面仍有不足,在量產前還需要進壹步測試,因此目前阿斯麥的優勢依然存在。初期產量將受到限制,今年預計生產約5台沉浸式深紫外光刻機,到2027年預計生產約20台。


沉浸式深紫外光刻機用於將電路圖案印制在硅片上;在相關限制措施切斷了中方對極紫外光刻機(EUV)的獲取途徑後,前者便成了中國芯片制造商所能使用的最先進光刻工具。

中國也在研發國產極紫外光刻機,盡管目前仍處於原型機階段。鑒於美國正考慮協調盟國對向中國出口光刻設備及提供相關維護服務實施更嚴格的限制,這項技術有望為中國芯片制造商提供關鍵設備的替代來源。

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